Institut d'Électronique et de Télécommunications de Rennes
UMR CNRS 6164

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Mise au point d’une technologie à très basse température

Mise au point d’une technologie à très basse température

Silicium microcristallin non-dopé et dopé déposé à T Cette technologie qui se trouve dans la continuité des compétences antérieures est développée dans le but des applications suivantes : électronique sur substrat souple bio-compatible, textile intelligent, affichage nomade. Elle nécessite le contrôle des dépôts en liaison avec les propriétés électroniques des composants. Des dépôts utilisant la technique PECVD ont permis de réaliser des couches de silicium non dopé ou dopé in-situ dont la morphologie (...)

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