Pôle micro et nano-usinage

La plateforme nanoRennes dispose des moyens technologiques permettant d'usiner à l'échelle micro et nanoscopique en utilisant des gravures humides ou sèches.

Equipements

Gravure humide

Gravure humide

Paillasses de gravure humide:
Chimie à disposition: KOH, TMAH, HF, etc.

Gravure plasma

Principaux équipements:
_ Gravure couche mince (Microsys 400)
_ Usinage profond (Deep RIE; Corial)
_ Chimie chlorée