Photolithographie et Chimie

NanoRennes dispose de trois salles de photolithographie et de chimie. Deux salles dédiées aux activités de recherche (l'une pour les technologies conventionnelles et l'autre pour les technologies plus exotiques comme l'électronique sur substrats biosourcés, textile, 3D, etc.) et une troisième partagée avec le CCMO pour des activités de formations. Elle dispose aussi d'un équipement de lithographie électronique (ebeam).

Equipements

Salle lithographie dédiée " recherche sur les technologies conventionnelles"

Salle lithographie dédiée " recherche sur les technologies conventionnelles"

Principaux équipements:
_ Aligneur MA6 (définition minimum 500nm, alignement double face, positionnement pour collage de deux substrats)
_ Insolation "maskless" Dilase 250+
_ Sorbonne pour chimie (KOH, TMAH, HF...) et développement de résines (Su8, S1818, SPR...)

Salle lithographie dédiée " recherche sur les technologies exotiques"

Salle lithographie dédiée " recherche sur les technologies exotiques"

Principaux équipements:
_ Spin 150
_ Dégazage de ploymères (e.g. technologies PDMS)
_ Mise sous vides d'échantillons (e.g., matériaux composites)
_ Recuit plaques et étuves

Salle lithographie dédiée enseignement et recherche

Principaux équipements:
_ Aligneur MJB4
_ Sorbonne pour chimie (KOH, TMAH, HF...) et développement résines (Su8, S1818, SPR...)

Lithographie électronique

Lithographie électronique

Exemples de réalisations

Exemple 1

Exemple 1

exemple 1

Exemple 2

Exemple 2

Exemple 2